Fornalha quente da imprensa do vácuo do PLC 20T, do ℃ do vácuo fornalha até 2000 de carburação

Fornalha quente da imprensa do vácuo

Fornalha quente da imprensa do vácuo de alta temperatura, fornalha da imprensa 20T até 2000℃

A fornalha quente da imprensa do vácuo usada principalmente para a aglomeração da alta temperatura e o tratamento quente da imprensa, tal como o material inorgánico, liga dura, funciona cerâmico, pó da metalurgia. A densidade material podia ser aumentada sob uma circunstância do vácuo ou uma atmosfera protetora.

• O elemento de aquecimento podia ser selecionado de acordo com a diferença da temperatura da imprensa e do nível quentes do vácuo. O módulo da resistência é apropriado abaixo de 1200℃ e o calefator da grafite é apropriado sobre 1200℃.
• A escala da imprensa é ajustável abaixo de 5 toneladas de modo que seja possa ser usada para que a aglomeração da amostra e os testes quentes da imprensa evitem o desperdício do recurso.
• Agrupamento por uma régua grating com precisão alta a 0.02mm.
• Toda a ação podia ser controlada por um sistema do PLC, incluindo o controle de temperatura, ajuste da imprensa, auto seguimento da temperatura. Toda a monitoração e dados running da fornalha podiam ser indicados e registro no tela táctil, tal como a temperatura, nível do vácuo, deslocamento. A curva dos dados podia verificar dentro o tempo real.
• W-re par termoelétrico na baixa temperatura e par termoelétrico infravermelho para a alta temperatura. O W-re par termoelétrico será auto parado na alta temperatura.

Parâmetro técnico: