2000 fornalhas industriais da imprensa do vácuo do PLC 20T do grau

Vácuo industrial do PLC 20T que pressiona a fornalha até 2000 graus

Este vácuo industrial do PLC 20T que pressiona a fornalha até 2000 graus usados principalmente para a aglomeração de alta temperatura e o tratamento quente da imprensa, tal como o material inorgánico, liga dura, função cerâmica, pó da metalurgia. A densidade material podia ser aumentada sob uma circunstância do vácuo ou uma atmosfera protetora.

• O elemento de aquecimento podia ser selecionado de acordo com a diferença entre a temperatura da imprensa e o nível quentes do vácuo. O módulo da resistência é apropriado abaixo de 1200℃ e o calefator da grafite é apropriado sobre 1200℃.
• A escala da imprensa é ajustável abaixo de 5 toneladas de modo que seja possa ser usada para a aglomeração da amostra e a imprensa quente que testam para evitar o desperdício do recurso.
• Agrupamento por uma régua de raspagem com precisão alta a 0.02mm.
• Todas as ações podiam ser controladas por um sistema do PLC, incluindo o controle de temperatura, ajuste da imprensa, auto-seguimento da temperatura. Toda a monitoração e dados do corredor da fornalha podiam ser indicados e registro no tela táctil, tal como a temperatura, nível do vácuo, deslocamento. A curva dos dados podia verificar dentro o tempo real.
• W-re par termoelétrico na baixa temperatura e par termoelétrico infravermelho para a alta temperatura. O W-re par termoelétrico será auto parado em altas temperaturas.

Vácuo industrial do PLC 20T que pressiona o parâmetro técnico da fornalha:

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